池田屋进口OTSUKA/大塚电子薄膜厚度监测仪FE-300F
OTSUKA/大塚电子（Otsuka Electronics）推出的薄膜厚度监测仪，型号 FE-300F，是一款采用光学干涉法进行薄膜厚度测量的紧凑型设备。

池田屋进口OTSUKA/大塚电子薄膜厚度监测仪FE-300F

池田屋进口OTSUKA/大塚电子薄膜厚度监测仪FE-300F

OTSUKA/大塚电子（Otsuka Electronics）推出的薄膜厚度监测仪，型号 FE-300F，是一款采用光学干涉法进行薄膜厚度测量的紧凑型设备。该产品采用一体化设计，所有必要设备均集成于主机内部，确保数据采集的稳定性。操作简便，可在较短时间内完成高精度薄膜厚度测量。尽管定位为经济型设备，其仍可通过获取绝对反射率数据进行光学常数（n、k 值）分析，适用于半导体、光学镀膜及功能性薄膜领域的膜厚检测。

测量原理与核心规格

FE-300F 基于光学干涉法原理，通过分析薄膜表面与界面的反射光干涉光谱，计算出薄膜厚度。测量波长范围为 300-800nm，覆盖紫外至可见光波段。薄膜厚度测量范围基于 SiO₂ 等效值计算为 3nm 至 35μm，可覆盖从纳米级薄层到数十微米级厚膜的检测需求。光斑直径为 φ1.2mm，适用于宏观区域的平均厚度测量。样品台兼容最大样品尺寸为 φ200mm×5mm（高度），可适应常规晶圆及基板样品。

测量性能与操作

测量时间可在 0.1 秒至 10 秒范围内设定，用户可根据测量精度要求与样品特性选择适合的积分时间。较短测量时间适用于产线抽检或批量样品快速筛选，较长测量时间可用于低反射率样品或高精度要求的测量场景。设备配套专用分析软件，支持单层膜厚测量、多层膜厚分析及光学常数（n、k 值）解析。操作界面简洁，即使初次使用者也能较快上手。

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